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반도체 제조공정에서 필수적인 ‘이것’은 무엇일까요?
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[Timeline]
0:00 오프닝
0:10 삼불화질소(NF3)란?
0:42 SK머티리얼즈의 차별적 경쟁력
1:34 다음 이야기 예고
#Skmaterials #삼불화질소 #반도체제조공정
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‘마법의 돌’ 반도체를 닦아 주는 삼불화질소 NF3 – 효성 블로그
NF3(삼불화질소)는 각종 전자기기에 들어가는 반도체나 LCD 및 태양전지의 제조공정에서 발생하는 이물질이 묻어 있는 장비를 세척하는 데 사용하는 …
Source: blog.hyosung.com
Date Published: 6/24/2021
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KR101462751B1 – 삼불화질소 제조 방법
본 발명은 삼불화질소 제조방법에 관한 것으로서, 1) 제1전해조에서 불산(HF)을 전해하여 불소(F 2 ) 가스를 발생시키는 단계; 2) 불소화 반응기에서 상기 불소(F 2 ) …
Source: patents.google.com
Date Published: 7/26/2022
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OLED·반도체 슈퍼사이클에 삼불화질소 수혜 – IT 조선
유기발광다이오드(OLED) 디스플레이와 반도체 산업이 활황이다. 이들 제품을 생산하는데 반드시 필요한 주요 재료 중 삼불화질소(NF3) 생산 기..
Source: it.chosun.com
Date Published: 3/25/2022
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효성 공장 폭발사고 일으킨 삼불화질소는 어떤 물질? | 연합뉴스
(울산=연합뉴스) 김근주 기자 = 3일 울산 석유화학공단 효성 용연3공장에서 폭발과 함께 누출된 삼불화질소(NF3)는 유해성·위험성 물질이다.
Source: www.yna.co.kr
Date Published: 8/14/2022
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삼불화질소(NF3 : Nitron Fluorine Three) – 사이언스올
삼불화질소(NF3 : Nitron Fluorine Three) … 반도체나 LCD 제조공정에서 사용한 장비를 세척하는 용도의 무색이고 반응성 낮은 가스이다. 암모니아와 불화 …
Source: www.scienceall.com
Date Published: 9/10/2021
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[특허]고 순도의 삼불화 질소 가스 제조 방법 – ScienceON
본 발명은 고 순도의 삼불화 질소(NF3) 가스를 제조하는 방법, 더욱 상세하게는 삼불화 질소 가스 반응 합성 결과 생성된 NF3 합성 가스로부터 가스내에 포함된 HF, …
Source: scienceon.kisti.re.kr
Date Published: 8/17/2022
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[ 물질안전보건 자료(MSDS) ] – 삼불화질소(NiTROGEN …
[ 물질안전보건 자료(MSDS) ] – 삼불화질소(NiTROGEN TRiFLURORiDE:NF3) ; 외관. 무색 가스 ; 냄새. 곰팡이 냄새 ; pH. 자료없음 ; 용해도. 미세한 용해.Source: m.blog.naver.com
Date Published: 1/28/2022
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LKC-P-026 삼불화질소 (NF3) – 린데코리아
삼불화질소(NF3). 나. 제품의 권고 용도와 사용상의 제한. O 권고용도 … 삼불화질소(NF3). 삼플루오르화질소. (NITROGEN TRIFLUORIDE). 7783-54-2.
Source: www.linde-gas.kr
Date Published: 4/18/2021
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ICSC 1234 – 삼불화 질소 – ILO
삼불화 질소, ICSC: 1234 (10월 2004). 나이트로젠 플루오라이드 트라이플루오로아민 트라이플루오로암모니아 퍼플루오로암모니아 …
Source: www.ilo.org
Date Published: 11/22/2022
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삼불화질소(NF3) 충전장 퍼지판넬 조작 중 가스누출 화재
삼불화질소 충전장 퍼지판넬 화재사고사례(20.2.2.) KOSHA-MIA-202005. □□ ‥‥ 1. 본 OPL은 국내에서 발생한 화학사고에 대하여 안전보건공단에서 …
Source: kosha.or.kr
Date Published: 1/16/2021
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주제에 대한 기사 평가 삼 불화 질소
- Author: SK 머티리얼즈
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- Date Published: 2021. 8. 18.
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‘마법의 돌’ 반도체를 닦아 주는 삼불화질소 NF3
‘이것’이 없던 시절, 우리는 손으로 모든 보고서를 작성하고, 수 많은 서류들을 부족한 공간에 꽉꽉 채워 가며 보관해야 했습니다. 멀리 있는 고객에게 자료를 전달할 때에도 직접 찾아가야만 했죠. ‘이것’이 있어 우리는 컴퓨터로 쉽게 보고서를 작성할 수 있고, 수 많은 서류들도 최소한의 공간으로 보낼 수 있고, 멀리 있는 고객에게는 이메일 한 통으로 자료를 전달할 수 있게 되었습니다. ‘이것’이 있어 스마트폰이 생겨나고, 필름이 필요 없는 카메라가 출시되었으며, 각종 주방기기들이 발전할 수 있었습니다.
‘이것’은 바로 반도체입니다. 컴퓨터의 부품 뿐만 아니라 거의 모든 전자기기에 사용되는 반도체 시장은 50년 간 100배나 성장하였다는데요, 반도체 등 첨단기술이 성장함에 따라 덩달아 수요가 기하급수적으로 증가한 것이 있습니다. 바로 NF3(삼불화질소)입니다. 오늘은 반도체나 LCD, 태양광공정 등의 제조 공정에서 두루 쓰이는 삼불화질소에 관해 알아볼까요?
전자산업의 감초, 특수가스 NF3
NF3(삼불화질소)는 각종 전자기기에 들어가는 반도체나 LCD 및 태양전지의 제조공정에서 발생하는 이물질이 묻어 있는 장비를 세척하는 데 사용하는 무색의 비반응성 가스입니다. 쉽게 말해 ‘세정 가스’인 셈이죠. 반도체 등 디스플레이류에 도면 같은 그림을 그릴 때 지꺼기가 나오게 되는데, 디스플레이류는 워낙 민감한 장치이므로 찌꺼기를 표면에서 제거해줘야 합니다. 이 때 사용하는 가스가 NF3, 삼불화질소입니다.
순도 99.99% 이상의 NF3만 사용되기 때문에(효성의 NF3는 99.99%~99.999%의 고순도까지 생산 및 공급 가능합니다.), 암모니아(NH3)와 정제된 불화수소(HF)를 고온, 고압 반응을 통해 추출하고, 정제시키는 과정으로 순도를 높이는데요, NF3는 안정성이 뛰어난 비인화성 기체로 수송과 저장이 용이하면서도 상대적으로 배출가스 발생이 적다는 강점을 함께 지니고 있습니다. 공정 처리량을 증가시키며, 반도체 및 디스플레이 장비의 수명을 연장시키고, 세정률을 높여 모노실란(SiH4), 헬륨(He)과 함께 반도체, LCD 제조 공정에서 가장 많은 양이 사용되고 있습니다.
전 세계 생산량의 60%을 책임지는 효자 아이템
2012년 기준, 국내 NF3 제조사들의 연간 생산량은 총 9,600톤. 이는 국내에서 생산하는 물량만으로 이미 전 세계의 60%를 넘어서는 막대한 물량인데요, 이중 효성은 2,000톤 규모의 생산 능력을 갖추고 있습니다.
반도체 공정 스탭 수의 증가, 3D NAND 시장의 성장, OLED 패널 보급화 등으로 NF3의 사용 물량은 중장기적으로 늘어날 것으로 전망되는데요, 최근에는 중국이 반도체산업 육성을 위해 2025년까지 무려 176조 원을 쏟아 붓겠다는 계획을 발표했고, 이에 따라 시장의 급팽창이 예고된 상태입니다.
앞으로 효성은 NF3 신ㆍ증설을 시작으로 향후 10년간 총 6,000억 원을 추가 투자하여 세계 2위의 공급업체로 올라설 계획입니다. 생산량을 1만 톤까지 늘려 글로벌 특수가스 시장을 적극 공략해 나갈 계획입니다.
중국 진출 후 효성은 화학분야 최첨단소재인 NF3 분야의 세계 2위 기업으로 자리매김할 수 있을 것으로 전망됩니다. 탄섬과 폴리케톤, 타이어코드, 크레오라에 이어 세계 일류 제품으로 자리매김 할 그날까지, NF3의 발전도 지켜봐주세요~
KR101462751B1 – 삼불화질소 제조 방법 – Google Patents
NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals
C01B21/083
Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals containing one or more halogen atoms
OLED·반도체 슈퍼사이클에 삼불화질소 수혜
유기발광다이오드(OLED) 디스플레이와 반도체 산업이 활황이다. 이들 제품을 생산하는데 반드시 필요한 주요 재료 중 삼불화질소(NF3) 생산 기업이 수혜를 입는다. 삼불화질소는 반도체·OLED 주요 부품 세정에 쓰이는 특수가스다.
삼불화질소, OLED·반도체 공정 대표 세정제
글로벌 삼불화질소 대표생산기업 중 하나인 효성화학의 삼불화질소 설명문 / 효성그룹
삼불화질소 업계는 반도체·디스플레이 산업 성장과 비례해 시장 규모를 키워왔다. 최근 글로벌 OLED 디스플레이 생산 기업과 반도체 기업 등이 빠르게 성장 중인데, 그 덕에 삼불화질소 업계가 활황을 맞았다.
세정 작업은 반도체와 디스플레이 제조 공정에서 중요한 부분이다. 제조 중 도면 등에 이물질이 발생할 수 있는데, 이를 방치하면 민감한 반도체 등 장비에 문제가 될 수 있다. 삼불화질소는 세정 과정에 쓰이는 대표적인 물질로, 암모니아(NH3)와 정제 불화수소(HF)를 고온·고압에서 정제해 만든다.
OLED 디스플레이는 세정과정에서 기존 LCD(액정표시장치) 대비 4~5배 많은 양의 삼불화질소를 소비한다. 반도체에서 각광받는 3D NAND는 제조공정에서 기존 2D NAND보다 2배 많은 삼불화질소를 사용한다.
삼성·LG디스플레이를 비롯한 주요 디스플레이 기업은 LCD 생산 라인을 OLED 디스플레이로 전면 전환할 뜻을 밝혔다. 반도체 산업도 3D NAND 비중이 늘어났으며, 자동차 전장용 반도체 수요량 증가로 삼불화질소 공급량 상승에 일조하는 중이다.
반도체 업계 한 관계자는 “효성 그룹 및 SK머티리얼즈 등 국내외 화학기업의 공급량이 늘어난 상태다”라며 “OLED·반도체 수요량이 증가한데다, 국내외 팹리스 기업이 빠르게 증가해 공급량이 더욱 늘어날 것으로 예상한다”고 말했다.
삼불화질소(NF3) 글로벌 1위 공급기업인 SK머티리얼즈 / SK머티리얼즈
효성 공장 폭발사고 일으킨 삼불화질소는 어떤 물질?
(울산=연합뉴스) 김근주 기자 = 3일 울산 석유화학공단 효성 용연3공장에서 폭발과 함께 누출된 삼불화질소(NF3)는 유해성·위험성 물질이다.
안전보건공단에 따르면 삼불화질소는 화재를 일으키거나 더 강하게 하며, 가열되면 폭발한다.
일단 화재가 발생하면 독성 가스를 내뿜을 수 있다.
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사람이 이 물질에 노출되면 구토, 호흡곤란, 두통, 경련, 현기증 등을 일으키며 질식을 유발하기도 한다.
쥐 실험에서는 무산소증으로 폐사한 사례가 보고됐다.
따라서 삼불화질소 공정은 다른 공정과 격리하고 노출 기준 이하를 유지하도록 환기에 주의해야 한다.
삼불화질소는 산업 현장에서 반도체, LCD, 태양전지 등의 마이크로 회로를 세척하는 데 쓰인다.
폭발사고가 난 효성 용연3공장은 삼불화질소를 생산하는 곳이다.
효성은 지난 3월 용연3공장 부지에 1천억 원을 들여 연간 1천250t 생산능력을 갖춘 공장을 증설했다.
이날 오전 10시 32분께 이 공장에선 폭발음과 함께 가스가 누출돼 근로자 7명이 다쳤다.
사고는 배관이 터져 삼불화질소가 갑자기 누출되면서 발생한 것으로 알려졌다.
현재 배관은 차단된 상태이다.
경찰과 소방당국은 “‘펑’하는 소리와 함께 가스가 누출됐다”는 근로자 진술 등을 토대로 경위를 조사하고 있다.
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삼불화질소(NF3 : Nitron Fluorine Three)
반도체나 LCD 제조공정에서 사용한 장비를 세척하는 용도의 무색이고 반응성 낮은 가스이다. 암모니아와 불화수소를 반응시켜 추출하는데 안정성이 뛰어나고 저장과 수송이 용이하다. 삼불화질소는 반도체 등 첨단기술의 발전에 따라 수요가 기하급수적으로 늘어난 화학 물질이다.
[특허]고 순도의 삼불화 질소 가스 제조 방법
본 발명은 고 순도의 삼불화 질소(NF3) 가스를 제조하는 방법, 더욱 상세하게는 삼불화 질소 가스 반응 합성 결과 생성된 NF3 합성 가스로부터 가스내에 포함된 HF, N2F2, OF2 등의 불순물 및 수분을 효과적으로 제거하여 고 순도의 NF3 가스를 제조하는 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 이불화 산소(OF2)를 포함한 각종 불순물과 수분의 제거 효율이 현격히 향상되고, 또한 응축 공정 이후 흡착 공정을 수행하는 2차에 걸친 수분 처리 공정에 의해 합성 가스내에 포함된 수분까지 거의 완벽하게 제거함으로써, 고 순도 고 품질의 NF3 가스를 제공할 수 있으며, 따라서 반도체 세정 효과의 향상 등 삼불화 질소를 사용하는 다양한 분야에서 여러 가지 효과를 기대할 수 있다.
본 발명은 고 순도의 삼불화 질소(NF3) 가스를 제조하는 방법, 더욱 상세하게는 삼불화 질소 가스 반응 합성 결과 생성된 NF3 합성 가스로부터 가스내에 포함된 HF, N2F2, OF2 등의 불순물 및 수분을 효과적으로 제거하여 고 순도의 NF3 가스를 제조하는 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 이불화 산소(OF2)를 포함한 각종 불순물과 수분의 제거 효율이 현격히 향상되고, 또한 응축 공정 이후 흡착 공정을 수행하는 2차에 걸친 수분 처리 공정에 의해 합성 가스내에 포함된 수분까지 거의 완벽하게 제거함으로써, 고 순도 고 품질의 NF3 가스를 제공할 수 있으며, 따라서 반도체 세정 효과의 향상…
대표
청구항
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불순물로서 HF, N2F2, OF2, N2O, CO2, SO2F2 및 수분을 포함하는 NF3 합성 가스로부터 상기 불순물 및 수분을 제거하여 고 순도의 NF3 가스를 제조하는 방법에 있어서,(a) 불순물로서 HF, N2F2, OF2, N2O, CO2, SO2F2 및 수분을 포함하는 NF3 합성 가스를 KOH 수용액으로 처리하여 합성 가스내 HF를 중화 반응에 의해 KF 염 형태로 전환, 제거하는 단계,(b) 이후, 상기 NF3 합성 가스를 240℃ 내지 300℃의 온도에서 열분해 반응시켜 N2F2를 질소와 불소 가스로 분해, 제거하는 단계,(c) 상기 NF3 합성 가스에, 환원제로서 K2S2O3를 사용하여 OF2 및 F2를 환원, 제거하는 단계,(d) 에틸렌글리콜계 냉매를 사용하여 빙점에서 응축시켜 상기 NF3 합성 가스중에 존재하는 수분을 1차 제거하는 단계,(e) 수분 흡착제로서 제올라이트를 사용하여 -80℃ 이하의 온도에서 상기 NF3 합성 가스내 수분을 2차 제거하는 단계,(f) 흡착제로서 분자체(molecular sieve)를 사용하여 실온에서 상기 NF3 합성 가스중에 존재하는…
불순물로서 HF, N2F2, OF2, N2O, CO2, SO2F2 및 수분을 포함하는 NF3 합성 가스로부터 상기 불순물 및 수분을 제거하여 고 순도의 NF3 가스를 제조하는 방법에 있어서,(a) 불순물로서 HF, N2F2, OF2, N2O, CO2, SO2F2 및 수분을 포함하는 NF3 합성 가스를 KOH 수용액으로 처리하여 합성 가스내 HF를 중화 반응에 의해 KF 염 형태로 전환, 제거하는 단계,(b) 이후, 상기 NF3 합성 가스를 240℃ 내지 300℃의 온도에서 열분해 반응시켜 N2F2를 질소와 불소 가스로 분해, 제거하는 단계,(c) 상기 NF3 합성 가스에, 환원제로서 K2S2O3를 사용하여 OF2 및 F2를 환원, 제거하는 단계,(d) 에틸렌글리콜계 냉매를 사용하여 빙점에서 응축시켜 상기 NF3 합성 가스중에 존재하는 수분을 1차 제거하는 단계,(e) 수분 흡착제로서 제올라이트를 사용하여 -80℃ 이하의 온도에서 상기 NF3 합성 가스내 수분을 2차 제거하는 단계,(f) 흡착제로서 분자체(molecular sieve)를 사용하여 실온에서 상기 NF3 합성 가스중에 존재하는 미량의 N2O, CO2 및 SO2F2를 제거하는 단계, 및(g) 상기 단계들에 의해 발생된 N2 및 O2 가스는 배기하고, NF3 가스는 응축시켜 고 순도의 NF3 가스를 수득하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
[ 물질안전보건 자료(MSDS) ] – 삼불화질소(NiTROGEN TRiFLURORiDE:NF3)
호흡기보호
⁚ 통풍장치를 사용하고 허가된 호흡장비를 착용할 것
⁚ 특수 호흡용 보호구는 작업장의 오염수준에 따라 선택되어야 하고, 호흡용 보호구의 사용한계를 초과하지 않아야 함
·100ppm : 모든 공기공급용 호흡용 보호구와 모든 자급식 호흡용 보호구, 모든 삼질소플로라이드로부터 보호하는 카트리지를 장착한 공기공급용 카트리지 호흡용 보호구
·250ppm : 모든 연속 플로워 모드에 작동하는 공기공급용 호흡용 보호구와 모든 삼질산플로라이드로부터 보호하는 카트리지를 장착한 강력한 공기정화용 호흡용 보호구
·500ppm : 모든 전면 자급식 호흡용 보호구, 모든 전면 공기공급용 호흡용 보호구, 모든 삼질산플로라이드로부터 보호하는 카트리지와 전면 화학적 카트리지 호흡용 보호구, 모든 연속 플로워 모드에 작동하는 얼굴에 꼭 맞는 공기공급용 호흡용 보호구, 모든 삼질산플로라이드로부터 보호하는 얼굴에 꼭 맞고 카트리지를 장착한 공기정화용 호흡용
·2000ppm : 압력 요구나 기타 양압에 작동하는 전명 공기공급용 호흡용 보호구
·대피(escape) : 삼질산플로라이드로부터 보호하는 턱스타일,앞 또는 뒤 마운트 케인스터를 장착한 공기정화 전면식 호흡용 보호구, 적절한 대임타입형 자급식 호흡용 보호구와 아래턱, 복부 또는 등부위에 장착하는 유기용제용 정화통을 장착한 전면식 공기정화 호흡용 보호구(가스마스크)와 대피형 자급식 호흡용 보호구
⁚ 소방 및 기타 생명 또는 건강에 급박한 위험이 있는 경우
– 모든 자급식 전면 호흡용 보호구로서 압력요구나 기타 양압으로작동되는 것
– 압력요구나 기타 양압으로 작동되는 자급식 호흡용 보호구를 보조적으로 장착한 압력요구나 기타 양압으로 작동되어지는 모든 공기공급용 호흡용 보호구
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